光电行业对水质的要求：新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
应用场合： v 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 v 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液 v 显像管和阴极射线管生产、配料用纯水 v 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 v 液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液 v 晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制 v 集成电路生产中高纯水清洗硅片 v 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 v LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏 v 高品质显像管、萤光粉生产 v 半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗 v 超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料 v 实验室和中试车间 v 汽车、家电表面抛光处理 v 光电产品、其他高科技精微产品四、
典型电子级超纯水制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤
器→用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）
3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）
设备特点 为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
